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迈可诺技术有限公司

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德国Micro Resist纳米压印胶

详细摘要： Tg = 60℃优异的成膜质量由于高效的流动性和快速压印从而缩短整个工艺时间
产品型号：mr-I 7000E、mr-I 8000E所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
纳米压印光刻胶

详细摘要：德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶，除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外，还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以...
产品型号：全系列所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
美国Futurrex光刻胶

详细摘要： Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。
产品型号：全系列所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
美国Futurrex显影液

详细摘要： Futurrex产品优势：1、Futurrex光刻胶黏附性好，无需使用增粘剂（HMDS）2、负性光刻胶常温下可保存3年3、150度烘烤，缩短了烘烤时间4、单次旋...
产品型号：RD3、RD6所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
Futurrex去胶液

详细摘要： Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有：Ti、半导体、HP、SHAR...
产品型号：PR3、PR41所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
SU-8 3000光刻胶

详细摘要： SU-8 3000抗蚀剂经过专门设计，可与MicroChem的SU-8显影剂一起用于浸渍，喷涂或喷浆工艺。也可以使用其他基于溶剂的显影剂，例如乳酸乙酯和双丙酮...
产品型号：3010/3005/3025/3050所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
光刻胶SU-8 2000

详细摘要：为了获得大的过程可靠性，在涂覆SU-8 2000抗蚀剂之前，基材应清洁干燥。为了获得很好的结果，应使用食人鱼湿法蚀刻（使用H2SO4和H2O2）清洁基材，然后...
产品型号：2035/2050/2075/2100所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言
EM Resist SU-8负性抗蚀剂

详细摘要： EM Resist SU-8负性抗蚀剂产品，非常适合半导体应用。我们的产品有各种形式和厚度范围。
产品型号：GM1010/GM1020/GM1075所在地：上海市更新时间：2021-05-21 在线留言